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NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕:是一款自動放片/取片,并且工藝過程為全自動計算機(jī)控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:2149
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產(chǎn)品詳情

IBE離子束刻蝕

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為全自動上下載片,并且通過計算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。該系統(tǒng)所配套的所有核心組件均為。

該IBE離子束刻蝕系統(tǒng)具有很強(qiáng)的適應(yīng)性,可根據(jù)不同的應(yīng)用而按不同的配置進(jìn)行建構(gòu)。多樣的樣片夾具和離子源配置可支持用戶不同的應(yīng)用。用于離子銑系統(tǒng)的樣片夾具可以支持±90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。

我們的IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以把基片溫度保持在50°C以內(nèi)的能力。通過傾斜和旋轉(zhuǎn),可以刻蝕出帶斜坡的槽,并且改善了對側(cè)壁輪廓和徑向均勻度的控制。不同的選配項(xiàng)可以用于不同的網(wǎng)格配置以及中和器。濺射選配項(xiàng)可以支持對新刻蝕金屬表面的涂覆,以防氧化。此外,還可以選配單晶圓自動上下片功能。該系列IBM離子銑系統(tǒng)或IBE離子束刻蝕系統(tǒng)可以配置RF ICP離子源,升級為RIBE反應(yīng)離子束刻蝕系統(tǒng)。

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 低成本
  • 帶預(yù)真空鎖,自動上下載片
  • 離子束:高達(dá)2KV/10mA
  • 離子電流密度100-360uA/cm2
  • 離子束直徑:4",5",6"
  • 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
  • 極限真空5x10-7Torr
  • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
  • 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體
  • 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)
  • 自動上下載片(NIE-3500)
  • 基于LabView軟件的PC計算機(jī)全自動控制
  • 占地面積30"x30"

NIE-3500(A)全自動IBE離子束刻蝕設(shè)備應(yīng)用:

  • 表面處理
  • 離子銑
  • 表面清洗
  • 帶活性氣體的離子束刻蝕:  光柵刻蝕,以及SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕
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