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NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕:是一款手動放片/取片,但工藝過程為全自動計算機(jī)控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1526
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產(chǎn)品詳情

IBE離子束刻蝕

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品概述:該系統(tǒng)為計算機(jī)全自動實現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設(shè)計易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為。

NIE-3500(M)IBE離子束刻蝕產(chǎn)品特點:

  • 低成本
  • 離子束:高達(dá)2KV/10mA
  • 離子電流密度100-360uA/cm2
  • 離子束直徑:4",5",6"
  • 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
  • 極限真空5x10-7Torr
  • 260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
  • 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體
  • 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(NIE-3500)
  • 自動上下載片(NIE-3500)
  • 基于LabView軟件的PC計算機(jī)全自動控制
  • 占地面積30"x30"

產(chǎn)品應(yīng)用:

  • 表面清洗
  • 表面處理
  • 離子銑
  • 帶活性氣體的離子束刻蝕
  • 光柵刻蝕
  • SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕

 

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