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NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī)

NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī):PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕系統(tǒng),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品,不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空??梢栽?0mTorr到8Torr之間的真空下工作。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:1771
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產(chǎn)品詳情

RIE刻蝕PE刻蝕一體機(jī)

NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī)概述:RIE刻蝕PE刻蝕臺(tái)式一體機(jī),淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13"的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2"的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持至大到12"的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì),并且根據(jù)配套的真空泵可以達(dá)到10-6 Torr 或更小的極限真空。該系統(tǒng)系統(tǒng)可以在20mTorr到8Torr之間的真空下工作。真空泵組包含一個(gè)節(jié)流閥,一個(gè)250l/s的渦輪分子泵,濾網(wǎng)過(guò)濾器,以及一個(gè)10cfm的機(jī)械泵(帶Formblin泵油).RF射頻功率通過(guò)600W,13.56MHz的電源和自動(dòng)調(diào)諧器提供。系統(tǒng)將持續(xù)監(jiān)控直流自偏壓,該自偏壓可以高達(dá)-500V.這對(duì)于各向異性的刻蝕至關(guān)重要。

NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī)是基于PC控制的全自動(dòng)系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實(shí)時(shí)顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實(shí)時(shí)顯示.系統(tǒng)提供密碼保護(hù)的四級(jí)訪(fǎng)問(wèn)功能:操作員級(jí)、工程師級(jí)、工藝人員級(jí),以及維護(hù)人員級(jí).允許半自動(dòng)模式(工程師模式)、寫(xiě)程序模式(工藝模式), 和全自動(dòng)執(zhí)行程序模式(操作模式)運(yùn)行系統(tǒng)?;谌詣?dòng)的控制,該系統(tǒng)具有高度的可重復(fù)性。

產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體
  • 具有各向同性刻蝕和各向異性刻蝕兩種刻蝕能力
  • 不銹鋼立柜
  • 能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬
  • 典型的硅刻蝕速率,400 ?/min
  • 高達(dá)12"的陽(yáng)極氧化鋁RF樣品臺(tái)
  • 水冷及加熱的RF樣品臺(tái)
  • 大的自偏壓
  • 淋浴頭氣流分布
  • 極限真空5x10-7Torr,20分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr級(jí)別
  • 渦輪分子泵
  • 至多支持4個(gè)MFC
  • 無(wú)繞曲氣體管路
  • 自動(dòng)下游壓力控制
  • 終點(diǎn)監(jiān)測(cè)
  • 氣動(dòng)升降頂蓋
  • 手動(dòng)上下載片
  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 菜單驅(qū)動(dòng),4級(jí)密碼訪(fǎng)問(wèn)保護(hù)
  • *的安全聯(lián)鎖
  • 可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺(tái),用于深硅刻蝕

產(chǎn)品型號(hào):

  • NRE-4000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 44"W
  • NRE-3500:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W
  • NRE-3000:基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng),占地面積26“D x 26"W
  • NRP-4000:RIE/PECVD雙系統(tǒng)
  • NDR-4000:深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)
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