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NMC-4000(M)PA-MOCVD設(shè)備

NMC-4000(M)PA-MOCVD設(shè)備:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1989
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產(chǎn)品詳情

等離子輔助MOCVD技術(shù)

NMC-4000(M)PA-MOCVD設(shè)備概述:

NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺三個氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5 x 10-7Torr極限真空)、PC全自動控制,*的安全互鎖。

目前,這項技術(shù)延伸到5個4"晶圓的立柜式獨立批處理系統(tǒng),該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

NMC-4000(M)PA-MOCVD設(shè)備應(yīng)用:

  • Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

特點:

  • 獨立系統(tǒng)
  • 14”不銹鋼立方體腔體
  • 1次在8”樣品臺上處理16”晶圓片或在12”樣品臺上處理54”片子
  • 加熱的氣體管路
  • RF等離子源,自動調(diào)諧
  • 淋浴頭氣體分布
  • 1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺
  • N2沖洗
  • 手動放置晶圓片

 

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