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NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）

NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機(jī)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間：2023-11-13
  • 訪  問  量：3840
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產(chǎn)品詳情

Plasma Asher等離子去膠機(jī)

NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))概述：NANO-MASTER 等離子去膠和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。

NPC-3500（M）等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 緊湊型立式系統(tǒng)
  • 不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
  • 兼容100級(jí)超凈間使用
  • 淋浴頭、ICP或微波等離子源
  • 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)
  • RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺(tái)
  • 全自動(dòng)或手動(dòng)RF調(diào)諧
  • z多可支持4個(gè)MFC帶電拋光的氣體管路
  • PC計(jì)算機(jī)控制的氣動(dòng)閥
  • 帶密碼保護(hù)的多級(jí)訪問控制
  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 機(jī)械泵的壓力可達(dá)到10mTorr
  • 250 l/s的渦輪分子泵
  • 極限真空為5x10-7Torr
  • 完整的安全聯(lián)鎖

NPC-3000（M）等離子去膠機(jī)應(yīng)用：

  • 有機(jī)物以及無機(jī)物的殘留物去除
  • 光刻膠剝離或灰化
  • 去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用
  • 清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架
  • 提高黏附性，消除鍵合問題
  • 塑料的表面改型：O2處理以改進(jìn)涂覆性能
  • 產(chǎn)生親水或疏水表面

 

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