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產(chǎn)品中心/ products
磁控濺射系統(tǒng)
聯(lián)系電話:021-62318025
磁控濺射技術(shù)
NSC-4000(M)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能,可達8"旋轉(zhuǎn)平臺,可支持4個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達到10-6 Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。
NSC-4000帶有13"鋁質(zhì)腔體,4個2"的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,我們提供不銹鋼腔體,500 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。
NSC-4000(M)磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點:
不銹鋼,鋁質(zhì)腔體
260或500 l/s的渦輪分子泵,串接機械泵或干泵
13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
帶觀察視窗的腔門易于上下載片
基于LabView軟件的PC計算機控制
帶密碼保護功能的多級訪問控制
*的安全聯(lián)鎖功能
NSC-4000(M)選配項:
不銹鋼腔體
熱蒸鍍能力
RF、DC濺射
RF或DC偏壓(1000V)
樣品臺可加熱到700°C
膜厚監(jiān)測儀
基片的RF射頻等離子清洗
預真空鎖以及自動晶圓片上/下載片
NSC-4000(M)應(yīng)用:
晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
光學以及ITO涂覆
帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆
帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射