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全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)濺射過(guò)程的精確控制

更新時(shí)間:2024-09-25      瀏覽次數(shù):62
  全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)是一種利用磁場(chǎng)控制電子運(yùn)動(dòng)軌跡,使電子與靶材發(fā)生碰撞并濺射出原子或分子,從而在基片上形成薄膜的設(shè)備。與傳統(tǒng)的磁控濺射設(shè)備相比,在結(jié)構(gòu)上增加了自動(dòng)化控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)整個(gè)濺射過(guò)程的精確控制和自動(dòng)化操作。主要由真空室、磁控濺射源、基片加熱器、真空測(cè)量與控制系統(tǒng)以及自動(dòng)化控制系統(tǒng)等部分組成。其中,自動(dòng)化控制系統(tǒng)是核心部分,它通過(guò)接收傳感器的信號(hào),實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)濺射過(guò)程中的各項(xiàng)參數(shù)(如真空度、溫度、電流等),并根據(jù)預(yù)設(shè)的程序自動(dòng)調(diào)整各項(xiàng)參數(shù),以保證薄膜的質(zhì)量和一致性。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、能源、環(huán)境等領(lǐng)域的薄膜制備中。例如,在半導(dǎo)體領(lǐng)域,它可以用于制備金屬電極、絕緣層、導(dǎo)電層等;在光電子領(lǐng)域,它可以用于制備太陽(yáng)能電池、顯示器件、光學(xué)薄膜等;在能源領(lǐng)域,它可以用于制備燃料電池電極、鋰離子電池正極材料等;在環(huán)境領(lǐng)域,它可以用于制備水處理膜、氣體分離膜等。
 

 

  1.高效穩(wěn)定:采用先進(jìn)的自動(dòng)化控制技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)濺射過(guò)程的精確控制,提高薄膜的沉積速度和質(zhì)量穩(wěn)定性。
  2.操作簡(jiǎn)便:通過(guò)觸摸屏或計(jì)算機(jī)界面,用戶(hù)可以方便地設(shè)置和調(diào)整各項(xiàng)參數(shù),實(shí)現(xiàn)一鍵式操作和遠(yuǎn)程監(jiān)控。
  3.安全可靠:具有完善的安全保護(hù)措施,如過(guò)流保護(hù)、過(guò)熱保護(hù)等,確保設(shè)備在異常情況下能夠自動(dòng)停機(jī)并報(bào)警。
  4.節(jié)能環(huán)保:采用節(jié)能型真空泵和電源管理系統(tǒng),有效降低能耗和排放。
  全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的操作與維護(hù):
  1.操作方法:
  (1)根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求選擇合適的靶材和基片;
  (2)將靶材和基片安裝到相應(yīng)的位置;
 ?。?)通過(guò)觸摸屏或計(jì)算機(jī)界面設(shè)置各項(xiàng)參數(shù)(如真空度、溫度、電流等);
 ?。?)啟動(dòng)自動(dòng)化控制系統(tǒng),開(kāi)始濺射過(guò)程;
 ?。?)在濺射過(guò)程中,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)各項(xiàng)參數(shù)的變化情況;
 ?。?)待濺射完成后,取出樣品并進(jìn)行后續(xù)處理。
  2.維護(hù)保養(yǎng):
 ?。?)定期對(duì)設(shè)備進(jìn)行清潔和檢查以保持其良好的工作狀態(tài);
  (2)檢查設(shè)備的密封性和真空度是否正常;
 ?。?)對(duì)于長(zhǎng)時(shí)間不使用的設(shè)備應(yīng)采取相應(yīng)的保護(hù)措施以防止銹蝕和老化等問(wèn)題的發(fā)生;
  (4)在使用過(guò)程中如發(fā)現(xiàn)異常情況應(yīng)及時(shí)停機(jī)檢查并排除故障后方可繼續(xù)使用。
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